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光反射膜厚仪:精密测量技术的奥秘与行业应用

2026-01-28

膜厚测量仪的技术本质
膜厚测量仪的核心技术原理是光的干涉现象。当一束光照射到薄膜表面时,会发生两次重要的反射:一次是在薄膜的上表面,另一次则是光穿透上表面后从薄膜与基底的下表面反射。这两束具有相同光源特性的反射光,在空间中会产生干涉叠加。当相位相同的光叠加时,强度增强;而相位相反的光叠加时,强度则减弱,进而形成明暗交替的干涉条纹。
景颐光电的膜厚测量仪FILMTHICK - C10便是基于这一原理,其机械结构集成了进口卤钨灯光源,使用寿命超过10000小时。该仪器通过该光学系统捕捉干涉信号,并利用光谱仪将光信号转换为电信号。由于光的波长是已知的,且干涉条纹的间距、强度与薄膜厚度存在直接关联,再结合薄膜与基底的折射率参数,运用干涉公式就能准确地计算出薄膜厚度。
值得一提的是,现代膜厚测量仪如FILMTHICK - C10多采用多波长光源或白光干涉技术,不仅能够测量单层薄膜,还能通过对复杂干涉光谱的解析,实现多层薄膜的厚度与折射率同步测量,拓展了其应用范围。例如,OPTICAFILMTEST光学膜厚测量软件采用FFT傅里叶法、极值法、拟合法等多种算法,并包含类型丰富的材料折射率数据库以及开放式材料数据库,能有效地协助用户进行测试分析,在测量期间还能实时显示干涉、FFT波谱和膜厚等趋势。
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膜厚测量仪的行业应用
半导体制造行业
在半导体芯片的光刻、镀膜工艺中,薄膜厚度的微小偏差都可能导致芯片性能失效。膜厚测量仪能够对光刻胶、氧化膜、金属镀层等薄膜进行在线检测,测量精度可达纳米级。以景颐光电的膜厚测量仪为例,在晶圆制造过程中,它可以快速完成多点抽样检测,及时反馈工艺参数偏差,助力生产线实现闭环控制,确保每一层薄膜的厚度都严格符合设计要求。
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光学薄膜领域
眼镜镜片、手机屏幕、激光器件等产品的光学性能,高度依赖于增透膜、反射膜、滤光膜等多层薄膜的准确设计。膜厚测量仪能够实时监测薄膜沉积过程中的厚度变化,保证薄膜的光学折射率与厚度匹配,从而实现减反射、高反射等特定光学效果。例如,手机屏幕的防指纹薄膜通过景颐光电的膜厚测量仪检测后,能够确保薄膜的均匀性,有效提升触控体验与耐用性。
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汽车工业
在汽车玻璃的隔热膜、后视镜的防眩膜、车灯的反光膜等产品中,膜厚测量仪可对其进行批量检测,无需破坏产品结构,快速判断薄膜厚度是否达标,优化镀膜参数,提升薄膜附着力与耐候性。
电子元器件与新材料研发
在柔性电路板、锂电池隔膜、太阳能电池背板等产品生产中,膜厚测量仪能适应不同材质薄膜的测量需求,无论是有机还是无机薄膜,都能实现准确检测,为新材料研发提供数据支持,加速新型功能薄膜研发进程。
膜厚测量仪的技术优势
膜厚测量仪的技术优势主要体现在以下几个方面:
非接触测量:避免了对薄膜表面造成划伤或污染,尤其适用于脆弱、精密的薄膜产品,如景颐光电的膜厚测量仪在对半导体芯片等精密薄膜的测量中,充分发挥了这一优势。
测量效率高:单次检测时间仅需毫秒级,能够满足工业化批量生产的检测需求,大大提高了生产效率。
适用范围广:能测量从纳米级到微米级的薄膜厚度,兼容金属、非金属、透明与不透明等多种材质,几乎涵盖了所有常见的薄膜类型。
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